シリコン基板の応力分布
| 光源波長 | 532nm |
| 対物レンズ | 100倍 N.A.=0.9 |
| 回折格子 | 2400 gr/mm |
| スペクトル数 | 60,000(400×150) |
| 測定時間 | 20分 |
上の画像は、シリコン基板の応力分布をカラースケー ルで示したラマン・ピークシフトイメージです。シリコン基板上に薄膜を形成した試料で、薄膜周辺においてシリコンピーク位置にどのようなシフトが生じているかを面で分析し、その分布を画像で確認できます。
画像内の点線に沿って、シリコンピーク位置のシフト量を調べたデータです。0.1cm-1を超える高精度で応力分布を測定できます。
（参考）分光分解能とピーク位置決め精度
分光性能を示す波数分解能は、非常に誤解されることの多いスペックです。波数分解能とは、隣接した2つのピークを分離して検出する能力です。この能力は、分光器の焦点距離や回折格子の刻線数、励起レーザーの線幅など、さまざまな要素で決まります。装置の波数分解能を判断するためには、レイリー散乱光の半値全幅(FWHM)を調べるのが適切です。また、応力測定の精度は、ピーク位置決め精度と呼ばれる性能が必要で、これは同一サンプルを繰り返し測定し、そのピーク位置がどの程度ばらつくか(標準偏差)を調べることで判断できます。