IWN2026 (International Workshop on Nitride Semiconductors 2026) 

・日程：2026年11月8日(日)～11月13日(金)

・場所：熊本城ホール

・IWN2026サイト（https://iwn2026.jp/）

ポスター発表
Characterization of Surface Residual Stress in GaN Substrates during the Wafering Process using Raman Imaging Spectroscopy

・発表者：Mariko Adachi(1), Hidetoshi Takeda(2), Hideo Aida(2)
　(1) Bruker Japan K.K., Japan, (2) Nagaoka University of Technology, Japan

・発表日時　11月10日（火）14:45~16:45  ・発表場所　シビックホール