ニュースNews

ユーロフィンEAG×ブルカー共催ウェビナーのお知らせ
半導体異物解析と材料評価の最前線ウェビナー


 半導体デバイスの高性能化・微細化が加速する中、異物・汚染・材料劣化といった課題を的確に把握するための分析技術はこれまで以上に重要性を増しています。本ウェビナーでは、ユーロフィンEAGとブルカーが共催し、半導体分野で求められる最新の異物解析・材料評価・微細構造分析について、実例を交えてわかりやすくご紹介します。ウェハや実装工程における異物・汚染分析、レーザーラマン顕微鏡による化学組成評価、さらにはAFM・ナノ力学・赤外分析を統合した次世代解析アプローチまで、幅広いテーマを1日で網羅できる内容となっております。
半導体デバイス開発、信頼性評価、生産技術に携わる皆様に特におすすめのプログラムです。
皆様のご参加をスタッフ一同お待ちしております。

日時 2026年4月9日(火) 13:30~15:10(13:15ログイン受付開始)
形式 ウェビナー(オンラインによるWEBセミナー)
※ウェビナー配信サービスには「GoToWebinar」を利用致します。ブラウザ経由でのご視聴ですのでアプリのインストールの必要はございません。
ご所属先のインターネットのセキュリティーポリシーによってはGoToWebinarへのアクセスを拒否される場合がございます。その場合、事前にご所属先のIT部門の方へアクセス許可のご相談いただくか、GoToWebinarへアクセスできる環境よりログイン下さい。(インビテーションを転送頂ければ、別のPC及び端末より参加頂けます)。ご不明点はお気軽に弊社までお問合せ下さい。
参加費 無料(事前登録制)
お申込み 下記のWEB登録フォームよりお申し込みください。

WEB登録フォーム

※対応ブラウザ Google Chrome, Edge, Firefoxとなります。
プログラム
時間 内容(当日のプログラムは予告なく変更することがございます。)
13:30~13:35 オープニング
13:35~14:05
「半導体ウェハ表面の金属汚染分析 ― 各種手法の特徴と分析事例の紹介」
デバイスの微細化に伴い、微量汚染が与える影響は拡大しており、プロセス開発における高度な汚染分析技術の重要性が一段と高まっています。本ウェビナーでは、特にウェハ表面における金属元素の汚染評価技術について、各種手法の特徴や分析事例を詳しく紹介いたします。
ユーロフィンイーエージー株式会社
テクニカルサポート 渡部 秀継様
14:05~14:35
「レーザーラマン顕微鏡による半導体ウェハの多面的材料解析」
300 mm ウェハステージ搭載レーザーラマン顕微鏡RAMANdriveを用いた半導体ウェハ分析の最新事例をご紹介します。300 mm ウェハ上の異物解析、応力分布評価、結晶構造の可視化、薄膜評価など、多様なニーズに応える分析が可能です。Si、GaN、SiCを中心に、開発から故障解析まで幅広く活用できる応用例を、分かりやすく解説します。
ブルカージャパン株式会社 オプティクス事業部
シニアアプリケーションサイエンティスト 足立 真理子
14:35~15:05
「10 nm の微小異物が分かる ‐ 半導体向けナノ赤外分光装置Dimension IconIR」
Dimension IconIR は、10 nm を超える極めて高い空間分解能で IR 分析を行う新しい表面解析システムである。ウェハやデバイス上のナノサイズの異物分析・故障解析など様々なナノ化学構造分析に対応する。IconIR は300 mm ウェハ対応機種やフォトマスク用の専用アタッチメント等も存在し、多様なAFM測定モードによる多角的な表面ナノ分析および、KLARFファイルを介した分析装置間の連携による高度なデバイス分析など様々な分析アプリケーションに対応可能である。
ブルカージャパン株式会社 ナノ表面計測事業部
アプリケーションエンジニア 横川 雅俊
15:05~15:10 クロージング
セミナーに関するお問合せ
ブルカーナノ表面計測事業部 イベント担当
TEL:03-3523-6361 / FAX:03-3523-6364